分出物质的形状为单晶体、多晶体，也可能会以粉末、纤维、膜、零星状况分出。

　　3.因为渗透性强，不只可以在基材外表构成镀层，还可以对微米级缝隙的内侧以及细孔内外表、粉体进行涂层处理。此外，可以分出非渗透性的细密层，在化学测验以及显微镜调查中均可承认不存在针孔。

　　4.由多种成分构成的陶瓷类，易于调整其组成成分。此外，可通过反响物质、组成条件操控分出层的纤细安排。其他工艺办法无法取得这一作用。

　　5.蒸镀速度快，易于得到厚膜。可以以数μm〜数100μm/min的速度完成mm级的厚度。

　　6.工艺简略，所以设备费用低价。可完成彻底无公害的封闭系统。排气气体为单质，其他卤素气体具有水溶性，因而可通过水洗予以捕获。

　　别的，在进行处理时，还有必要留意如下事项。在模具上选用热CVD时，加工目标为工具钢，可是适用钢种的正确淬火温度有必要高于CVD处理温度。钢材中必定存在碳化物，温度700℃在以下时归于铁氧体温区，十分安稳，可是关于Ti类皮膜（TiN、TiC、TiCN），成膜温度在1000℃的奥氏体温区内，所以钢材中的碳化物会发生固溶，发生固溶的碳元素与导入气体之间的反响会愈加活泼。因而，钢材中碳化物的品种及数量会对热CVD工艺下的成膜发生严重影响。此外，长期保持在1000℃左右的高温下，或是为了在成膜后进行淬火退火而再次加热等，会导致钢材中的碳化物集合或脱碳，然后引发钢材脆化。

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