CVD(化学气相堆积)是指化学气体或蒸汽在基质表面反应组成涂层或纳米资料的办法，是工业中使用最为广泛的用来堆积多种资料的技能，包含大范围的绝缘资料，大多数金属资料和金属合金资料。其一般使用于集成电路制作、粉末组成、金属精美等。

　　从方针环境上来看，我国关于CVD设备较为注重，其首要体现在相关方针关于开展半导体设备的支撑。如《十三五国家科技立异规划》中，薄膜设备(PVD设备、CVD设备等)被列为国家需求霸占的高端制作配备;《我国制作2025》中也说到，要构成集成电路要害制作设备的供货才能。

　　近年来，CVD工艺不断开展，构成了较为固定的工艺流程，一起也依据不同的使用演化出了APCVD、LPCVD、PECVD等不同的CVD技能。一般来说，不同的CVD技能需求不同的CVD设备来承载，必定程度上也促进了CVD设备制作工艺的开展。

　　全球CVD设备商场的首要企业有使用资料、泛林半导体和TEL这三家，据Gartner发表，这三家企业算计占有了全球近70%的商场比例。其间，使用资料所占商场比例为30%;泛林半导体和TEL各自占有21%和19%。

　　现在全球干流的CVD设备仍为PECVD、APCVD和LPCVD，据Gartner数据发表，这三类CVD设备算计商场比例约占总商场比例的70%;其间PECVD的商场比例约为35%。

　　我国CVD设备的国产化率近年来虽然在不断增加，但全体来看依然较低。从长江贮存2017年至2020年2月CVD设备累计投标收购比例来看，仅有3%的CVD设备来自于我国国产企业(沈阳荆拓)，由此可见，我国CVD设备竞赛力与海外知名企业比较仍具有必定的距离。

　　现在我国CVD设备的首要出产企业包含北方华创和沈阳荆拓，这两家企业近年来开展势头较好，CVD设备相关技能也正在赶紧研制中，未来或将成为我国CVD设备国产化率大幅提高的首要动力源。

　　以上数据来源于前瞻工业研究院《我国半导体工业战略规划和企业战略咨询陈述》，一起前瞻工业研究院供给工业大数据、工业规划、工业申报、工业园区规划、工业招商引资等解决方案。