金融界2023年12月12日音讯，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社请求一项名为“等离子体处理设备“，公开号CN117219485A，请求日期为2023年6月。

  专利摘要显现，一种等离子体处理设备包含：工艺室，在其间履行基板处理工艺；静电卡盘，其具有微腔；下电极，其被设置为与静电卡盘的下外表触摸；高频电源，其将高频电力施加到下电极；导电支撑件，其被设置为与下电极的下部间离隔而且接地；以及放电抑制器，其坐落下电极和导电支撑件之间，具有构成气体供给线的一部分的气体供给活动途径，而且经过三维打印来成型，其间，气体供给活动途径具有在高频电力所构成的电场的方向上具有5mm或更小的长度而且衔接放电抑制器的上外表和下外表的空间部分。

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