为争抢EUV设备，高层一再传出密访ASML，EUV的重要性早已显而易见。说到EUV，咱们首要想到的便是ASML，ASML并不是一个众所周知的姓名，但他却是现代技能的要害。因为它供给了制作必不可少的“光刻”机器，在摩尔定律行将开展到止境的现在，可以说，得EUV者得先进工艺。尽管在EUV相关设备商场中，荷兰ASML垄断了中心，但在“极紫外光刻曝光”周边设备中，日本设备厂家的存在感在逐渐进步，特别在

　　半导体逻辑制程技能进入到7纳米以下后，因为线宽过细，因而需求EUV设备做为曝光前言，未来先进半导体逻辑芯片制程将向下推进到3纳米、2纳米，乃至是1纳米制程，到时EUV设备将会呈现再度晋级。除此之外，不只逻辑晶圆制程需求EUV设备之外，就连未来量产DRAM也需求EUV设备。

　　因而除了台积电、三星及英特尔等晶圆厂争抢EUV，后续包括美光、SK海力士也需求很多EUV设备。乘着5G遍及的“顺风”，半导体微缩化需求逐渐高涨，半导体厂家加快导入EUV，EUV设备成为炙手可热的产品。

　　所以三星电子李在镕副会长于10月13日紧迫访问了荷兰的半导体设备厂家——ASML，并与ASML的CEO Peter Wennink先生、CTO Martin van den Brink先生进行了谈判，那么三星能得到几台EUV设备呢？

　　让咱们来回看下全球仅有的EUV设备出产商ASML的历年出货量，ASML在2015年出货了6台、2017年10台，2018年18台，2019年26台，估计2020年出货36台。可是，Open PO数量在不断添加，在2020年的第二季度现已到达了56台。据biz-journal估测，在ASML 2020年出货的36台设备中大部分都是出给台积电的。假如三星电子也购买了EUV设备，最多也便是1-2台。可以估测，在2020年年底各家厂家持有的EUV设备数量如下，TSMC为61台，三星电子最多为10台左右。

　　外电报道也指出，ASML现在现已出产及接单的EUV设备大约落在70台左右水准，台积电现已获得过半设备，三星才获得10台，尽管李在镕亲身出访ASML，也才多获得9台，仅挨近台积电最初刚跨入EUV代代的水准，三星先进制程晶圆供给量远低于台积电。

　　后续TSMC每年会引入约20-30台EUV设备，估计在2025年底会拥有约185台EUV设备（乃至更多）（注），另一方面，三星电子的方针是在2025年底拥有约100台EUV设备，从ASML的出产产能来看，适当困难。

　　上文咱们所说的都是ASML的EUV曝光设备（也便是咱们常说的EUV光刻机），这是EUV中心设备。但EUV相关设备中还包括光掩模缺点检测设备和涂覆显影设备，这可以称作是EUV的周边设备，在这两大EUV设备范畴中，日本厂商有着不容小觑的市占率。

　　首要来看缺点检测设备，假如作为原始电路板的光掩模中存在缺点，则半导体的缺点率将相应添加。最近几年需求添加特别旺盛的是EUV光罩（半导体线路的光掩模版、掩膜版）查验设备，在这个范畴，日本的Lasertec Corp.是全球仅有的测验机制作商，Lasertec公司持有全球商场100%的比例。

　　2017年，Lasertec处理了EUV难题的要害部分，其时该公司创建了一款可以查看空白EUV掩模内部缺点的机器。2019年9月，它又推出了可以对现已印有芯片规划的模板进行相同处理的设备，然后又创建了另一个里程碑。

　　据yahoo新闻报道，Lasertec公司2020年7月-9月期间的半导体相关设备的订单金额是去年同期的2.6倍。为满意商场的需求，现在现已添加了数家代工企业。传统的查看EUV光掩膜的办法主要是将深紫外光（DUV）应用于光源中，而EUV的波长较DUV更短，产品缺点检测灵敏度更高。DUV光尽管也可以应用于当下最先进的工艺5纳米中，而Lasertec公司的运营企划室室长三泽祐太朗指出，“跟着微缩化的开展，在步入2纳米制程时，DUV的感光度或许会不行充沛”！即，选用EUV光源的检测设备的需求有望进一步添加。

　　Lasertec总裁Osamu Okabayashi此前曾指出，“逻辑芯片制作商将首要选用EUV技能，随后将是内存芯片制作商，但真实的订单量将在它们到达量产阶段时到来。”Okabayashi估计每个客户或许需求几个测验设备，每个设备的本钱或许逾越43亿日元（4000万美元），制作时刻长达两年。芯片制作商在其掩膜车间至少需求一台机器，以保证模板打印正确。而晶圆厂则需求测验设备来调查因为会集的光线重复投射到芯片规划模板上而形成的微观磨损。

　　日本另一个占有100%商场比例的是东京电子的EUV涂覆显影设备，该设备用于将特别的化学液体涂在硅片上作为半导体资料进行显影。1993年东电开端出售FPD出产设备涂布机/显影机，2000年交付了1000台涂布机/显影机“ CLEAN TRACK ACT 8”。

　　东京电子的河合利树社长指出，假如EUV的导入能促进整个工序的技能进步的话，与EUV没有直接联络的工序数也会添加。此外，各种设备的功能也会得以进步。别的，对成膜、蚀刻设备等也会带来必定的影响。据悉到2021年3月，东京电子方案出资至少12.5亿美元用于研制，来应对光刻设备商场的需求。

　　在光刻胶范畴，日本是全球的抢先厂商，特别是在EUV光刻胶方面，他们的商场占比更是高达90%，可是他们好像并没有怠慢脚步。

　　据《日经新闻》日前报道，富士胶片控股公司和住友化学将最早在2021年开端供给用于下一代芯片制作的资料，这将有助于智能手机和其他设备向更小、更节能等趋势开展。富士胶片正出资45亿日元（4，260万美元），在东京西南部的静冈县出产工厂装备设备，最早将于2021年开端批量出产。该公司表明，运用该产品，残留物更少，然后削减了有缺点的芯片。 一起，住友化学将在2022财年之前为大阪的一家工厂供给从开发到出产的全方位光刻胶出产能力。

　　光源可靠性也是光刻机的重要一环。日本的Gigaphoton是在全球规模内可以为光刻机供给激光光源的两家厂商之一（别的一家是Cymer，该公司于2012年被ASML收买）。Gigaphoton正等待东山再起，因为在EUV呈现之前，该公司就已成为光刻机光源范畴的前两名。可是，因为比如ASML收买竞赛对手之类的原因，它现在正在失掉其位置。在ASML推出EUV下一代设备之前，Gigaphoton尽力开发高输出光源组件，以从头获得商场比例。

　　GIGAPHOTON 是一家相对较年青的公司，成立于2000年。Gigaphoton一直在活跃开发极紫外（EUV）光刻技能，以作为逾越ArF光刻技能年代的下一代光刻技能之一。Gigaphoton现已开发了一种运用激光发生等离子体（LPP）办法的EUV光源，该办法经过将脉冲激光辐射到Sn靶上来从高温等离子体发生EUV光。现在，该公司正在开发量产的光源并获得安稳的开展。

　　此外，在电子束掩膜光刻设备商场，东芝集团旗下的NuFlareTechnology紧紧追逐东京电子显微镜制作商JEOL与奥地利IMS Nanofabrication的联盟，正在会集开发可以发射26万束激光的“多光束”设备。为了防止被全球最大的光掩膜板制作商Hoya收买，本年一月份起，东芝加强对NuFlare Technology的操控，向后者增派25名工程师及其他管理者，以期在2020财年完成下一代EUV适用设备出货。

　　在光刻设备范畴，尼康和佳能曾席卷全球商场，但在与ASML的竞赛中失利并在EUV开发方面落后。由上文咱们可以看出，在EUV的周边设备范畴以及资料方面，日本依然占据着几大龙头。但未来跟着产品和设备技能复杂性的添加以及相关本钱的添加，向EUV光刻技能的过渡将不可防止地削减商场参与者的数量。

　　但关于EUV，也有一些令人担忧的要素。一台顶级EUV曝光设备的价格高达1.2亿人民币（乃至更高），且周边设备的价格也很贵重。可以料想，跟着半导体微缩化的开展，半导体的本钱价很或许会逾越之前的完制品价格。日立高科技的石和太专务履行董事曾提出，“在微缩化技能的极限到来之前，经济价值的极限应该会首先到来！”

　　在现在的半导体职业，人们在想方设法进步半导体的功能，如纵向堆叠多个半导体芯片的“立体化”办法，即不经过微缩化来进步功能。期望全球的半导体设备厂家具有前瞻性，可以料想到EUV微缩化究竟能继续到什么时分。

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